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真空磁控溅射大平面阴极靶

2020/9/14 16:45:44发布153次查看
  • 品牌:昊光机电
  • 提供加工定制:是
  • 型号:大平面溅射

 
大平面溅射阴极
特点:
1、 采用独特的磁路设计,突破传统模式,更符合磁控溅射的理念。
2、 采用独特的结构设计,可以内置、外置,更符合使用要求。
3、磁铁不被冷却水包围,减少腐蚀,且保证磁力线的有效曲线分布。
4、独特的布气方式,更加保膜层溅射的均匀性,其等离子状态更加平衡。
5、 更高的溅射率,离子密度更强。
6、 更高的利用率,高达40%以上。
7、 尺寸范围:可在300-3000mm区间,保持一致的均匀性
8、使用范围:如ti、al、ni、cr、azo、ito等
应用领域:
半导体、mems、tft、ito、low-e玻璃、硬质涂层、装饰性膜层

深圳市昊光机电科技应用有限公司
李小姐
13316854872
:深圳市龙岗区坪地镇高桥产业区麻沙旭达工业区1栋
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